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　在 LCD 制程中，从初期入料洗净、成膜前洗净、光阻前洗净、配向洗净到完工洗净，至少需要 20 次以上的洗净工程，也需要各种洗净设备，目的是要将玻璃基板上的杂质以清洗剂洗净，由于这些洗净工程对于后续制程良率影响极大，因此 LCD 洗净设备在制程所扮演的角色也就显得格外重要，未来发展情况愈来愈受重视。台湾工研院经资中心产业分析师黄仲龙表示，洗净设备分为两种；一种是以卡匣为单位，将数个基板一起浸泡在洗净槽中进行洗净处理的「群组式设备」，以及将基板分片搬送，再用清洗液冲洗基板正反面来进行洗净工程的「单片式设备」。

    在 LCD 玻璃基板的制程中有很多采用群组式洗净设备，主要是因为以卡匣为单位处理基板，生产量高，但因基板尺寸变大，设备的高度也会变高，加上清洗液循环使用以及卡匣和基板一起洗净的影响，会产生无法完全洗净等问题，因此群组式洗净设备在 TFT 制程上的应用有所限制。

    单片式洗净设备虽然也会随着基板面积扩大而变大，但设备高度影响却比较少。而且单片式洗净设备可以做到群组式洗净设备较难做到的单片基板洗净，以及可依清洗液不同进行深度洗净，所以成为 LCD 洗净设备的主流。

    黄仲龙指出，针对 LCD 玻璃基板大型化与低价化等要求，进一步的降低价格、节省空间、提升产量及提升维修性等为洗净设备的新课题。而且依洗净制程不同，最适当的单片式洗净设备的种类也有所不同，因此，未来需要开发各种洗净设备。

    目前已开发完成可洗净 1 公尺平方基板的水平单片式洗净设备，但客户仍要求减少药液使用量和提高洗净工具的处理效率等问题，因此未来工具开发与洗净设备效率的提升，都是相关设备研发改善的重要课题。

    此外，可洗净到 3.5 代基板尺寸的旋转单片式设备已开发完成，但是未来将面对的是1公尺平方玻璃基板的低温多晶硅TFT制程，业者则期待能有可用在大型基板与LTPS制程的高度洗净设备。因此，除了刷毛类的物理洗净工具与背面处理工具外，新的旋转式洗净设备与工具的开发动作也相当受关注。